دستگاه رطوبت ساز ایده ای برای توسعه لایه نشانی اتمی شد - وبلاگ حسامم

به گزارش وبلاگ حسامم، یکی از محققان دانشگاه آلاباما هنگامی که به صورت آنلاین در حال جستجو برای خرید یک دستگاه رطوبت ساز (دستگاه بخور) بود، از فناوری به کار رفته در این دستگاه ایده ای برای توسعه تجهیزات لایه نشانی اتمی گرفت.

به گزارش گروه فناوری وبلاگ حسامم، روش جدیدی برای لایه نشانی اتمی در دانشگاه آلاباما در هانتسویل (UAH) ابداع شده که در آن یک لایه اتمی روی سطح فلز در دمای اتاق ایجاد می شود.

مونهیونگ جانگ از محققان این پروژه، ایده استفاده از فناوری اتمیزه سازی با اولتراسونیک برای تبخیر مواد شیمیایی مورد استفاده از ALD را هنگام خرید یک دستگاه مرطوب کننده خانگی به دست آورد.

جانگ در آزمایشگاه یو لی از دپارتمان مهندسی شیمی همکاری می کند، آن ها نتایج یافته های خود را در Journal of Vacuum Science & Technology A به چاپ رسانده اند.

لی در این باره گفت: ALD یک روش لایه نشانی اتمی فیلم سه بعدی است که نقش مهمی در صنعت میکروالکترونیک داشته و در واحد های پردازش مرکزی این صنعت برای تولید حافظه استفاده می شود.

در هر چرخه ALD لایه ای به عمق چند اتم رسوب می کند، یک فرآیند ALD شامل چندین تکرار چرخه لایه نشانی است. یکنواختی فیلم های نازک به واکنش خود محدود کنندگی سطحی میان بخار پیش ماده و زیرلایه بستگی دارد.

لی اضافه نمود: ALD در حالی که مواد را به صورت یکنواخت روی ویفر های بزرگ سیلیکونی رسوب می دهد، برای تولید با حجم بالا و ایجاد مورفولوژی نانومتری مناسب است. این یک روش کلیدی برای تولید دستگاه های هوشمند قدرتمند و کوچک است.

جانگ هنگام بررسی رطوبت ساز های خانگی متوجه شد که این دستگاه ها از حرارت مستقیم با دمای بالا یا امواج اولتراسونیک در دمای اتاق برای تولید ذرات بخار آب استفاده می کنند.

لی می گوید: ما دریافتیم که روش دوم (اولتراسونیک) می تواند روشی ایمن و ساده برای تولید بخار از مواد شیمیایی باشد، به ویژه برای موادی که از نظر حرارتی ناپایدار هستند. روز بعد ما برای اثبات این مفهوم در آزمایشگاه تحقیقاتی خود، آزمایش هایی را طراحی کردیم و تمام مراحل کار تقریبا یک سال طول کشید.

با استفاده از این فناوری که محققان این پروژه ابداع کردند می توان موادی که از نظر حرارتی ناپایدار بوده و برای گرمایش مستقیم مناسب نیستند را برای ALD به کار گرفت.